±0.0001の屈折率精度で捉える、レジスト・ポリマー膜のわずかな変化|Metricon社 プリズムカプラー

2025年 09月19日

🔍 工程ごとに変化するレジスト・ポリマー膜

フォトリソグラフィやMEMS、光学コーティングに用いられるレジストやポリイミド、
各種ポリマー材料は、製造プロセスのステップごとに厚み・屈折率・分散特性が変化します。
ソフトベーク、露光、ハードベーク、ドーピング、UV処理などの工程を経るたびに分子構造や光学特性が微妙に変わり、
それを正確に把握することが製品性能の安定化やプロセス最適化の鍵となります。

🔍 加工中の屈折率変化を即時に可視化

Metricon Model 2010/Mは、屈折率を±0.0001、膜厚を±0.3%という高精度で同時計測可能な評価システムです。
測定は非破壊で1分以内に完了し、ベーク前後や処理条件によるわずかな違いも鮮明に数値化。
事前のモデル化や複雑なフィッティングを必要とせず、モード角度から唯一解を導出できるため、スムーズな工程フィードバックに活用できます。

🔍 VAMFOオプションで非接触測定も実現

柔らかい膜や変形しやすいサンプルには、オプションのVAMFO機能が有効です。
これにより、試料に触れることなく膜厚を評価でき、測定による表面損傷や形状変化を防ぎながら繰り返し安定したデータを取得可能です。

🔍 屈折率だけでなく分散特性まで自動評価

複数波長(405nm、532nm、633nmなど)を組み合わせることで、Cauchy近似に基づいた分散特性の自動算出が可能です。
波長依存性の大きな材料や、Abbe数の評価が必要な材料開発にも対応し、光学特性の全体像を網羅的に把握できます。

🔍 現場の声:「見えなかった差が数値で分かる」

ある化学材料メーカーでは、フォトレジスト改良時に
「従来では測定不能だったUV処理の影響が数値として可視化された」との声がありました。
膜厚・屈折率・分散特性を組み合わせた多次元的な評価は、プロセス設計や品質保証、さらにはクレーム解析まで幅広く役立っています。

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